该产品作为wafer入口的通道，可隔开半导体设备，包括金属零部件，以保护半导体制造设备使其免受腐蚀。由于其不透明特性，通常用于需要避免光线干扰的工艺步骤，比如某些光敏材料处理和曝光步骤，以防止外界光源对晶圆造成影响。